回答
2015-10-26 16:39:44
英語勉強中さん
Therefore, as long as the divided regions which are arrayed in one arrangement direction are sequentially exposed, exposure is always performed on a divided region which is not susceptible to or is sufficiently less susceptible to local thermal expansion of the wafer and hence the reduction in accuracy of superposition of patterns due to the thermal expansion of the wafer can be avoided.
従って、その1つの配列方向に並ぶ区画領域を順次露光する限り、常に、ウエハの局所的な熱膨張の影響がないあるいは十分小さい区画領域に対して露光が行われるので、ウエハの熱膨張によるパターンの重ね合わせ精度の低下を回避することが可能となる。
http://ejje.weblio.jp/sentence/content/susceptible+local